제품정보

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  • 극소갭을 갖는 미소 구조체의 형성을 가능하게 하는 MEMS용 희생층 에칭 장치 입니다.
  • 구조체에 데미지를 주지 않고 실리콘 산화막/ 다결정 실리콘등의 희생층을 에칭 합니다.
  • 또한 멀티 챔버방식으로 구조체의 끈적거림을 방지하는 발수성 코팅까지 연속 실시하여 ALL DRY 처리를 가능하게 합니다

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